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當前位置:首頁產品展示科學儀器系列半導體氣體中的痕量雜質分析系統

半導體氣體中的痕量雜質分析系統

產品簡介:隨著半導體技術的進步以及半導體激光器在通信、信息處理等領域的應用日益活躍,制造過程中使用的特種氣體種類和數量不斷增加。本系統采用氣相色譜法,可自動檢測半導體材料氣體中痕量雜質及組分含量。

產品型號:

更新時間:2025-11-27

廠商性質:生產廠家

訪 問 量 :38

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021-61434006

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產品介紹

可測量鍺烷(GeH)、磷化氫(PH)、砷烷(AsH)、二氯硅烷(DCS) 、三氯硅烷(TCS)等半導體氣體中的雜質成分。

通過高性能氣相色譜儀可實現高精度自動檢測(操作簡便)。

可檢測氫氣(H2)、氧氣(O2)、氮氣(N2)、甲烷(CH4)、一氧化碳(CO)、二氧化碳(CO2)、C2組分、C3組分等雜質。


可測量鍺烷(GeH)、磷化氫(PH)、砷烷(AsH)、二氯硅烷(DCS) 、三氯硅烷(TCS)等半導體氣體中的雜質成分。

通過高性能氣相色譜儀可實現高精度自動檢測(操作簡便)。

可檢測氫氣(H2)、氧氣(O2)、氮氣(N2)、甲烷(CH4)、一氧化碳(CO)、二氧化碳(CO2)、C2組分、C3組分等雜質。


可測量鍺烷(GeH)、磷化氫(PH)、砷烷(AsH)、二氯硅烷(DCS) 、三氯硅烷(TCS)等半導體氣體中的雜質成分。

通過高性能氣相色譜儀可實現高精度自動檢測(操作簡便)。

可檢測氫氣(H2)、氧氣(O2)、氮氣(N2)、甲烷(CH4)、一氧化碳(CO)、二氧化碳(CO2)、C2組分、C3組分等雜質。






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